微波无极紫外设备

JYM-3000紫外光清洗设备

光清洗设备
材料表面清洗
材料表面改性
UV氧化反应
产品描述：使用短波长紫外线UV表面清洗、表面改性技术，用清洁高能紫外线光源，对材料进行处理后可得到极其清洁的表面和强力的表面接着性。改性的基本的反应就是UV引起的氧化反应。UV照射固体表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易挥发性物质，最终挥发消失。并且表面形成有利表面接着的如OH，COO，CO，COOH等亲水性原子团，被改性的表面接着性得到飞跃性地提高。
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产品简介：

一般工业或高科技领域使用的一些材料具有非常高的性能，对环境也非常友好，但这些材料的接着性、印涂性等一般都非常差。本公司提供的短波长紫外线（UV）表面清洗、表面改性技术，用清洁的高能紫外线光源，对上述材料进行处理后可得到极其清洁的表面和强力的表面接着性。
改性的基本的反应就是UV引起的氧化反应。UV照射固体表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易挥发性物质，最终挥发消失。并且表面形成有利表面接着的如OH，COO，CO，COOH等亲水性原子团，被改性的表面接着性得到飞跃性地提高。
UV光源技术的进步保证了UV/O3表面改性技术充分发挥其突出的优越性。UV/O3表面改性技术因能处理得到极高的清洁度与表面接着性，在固体表面处理中越来越得到广泛的应用。
紫外光清洗的特点：
○大气中处理，简单、方便、环保，无二次污染，无需加热、药液等处理。
○清洁度极高，单分子层以下，可以得到从前的处理方法难以想象的接着性。
○国内独有超高出力短波长紫外线光源，仅需短时间（秒单位）照射，便能发挥强大的处理能力，显著提高生产效率。
○对绝大多数塑料成型品照射有效，适用性广。
○可避免大量消耗药液、热能等，运行成本低。

紫外光清洗的技术应用范围：
主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。
主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点，目前在液晶显示器STN的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ITO膜与感光胶膜层，TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品，用于纳米技术研究，产品经此UV光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。